SERVICE 业务介绍 真空镀膜业务

概要

本公司成功开发了在四面相向溅射法中实现高品质成膜的RAM阴极产品。
RAM阴极的特点是,可在低损伤、低温条件下成膜,而且可确保镀膜表面平滑气泡等缺欠较少。
RAM阴极的这些特点,使之可广泛应用于钙钛矿型太阳能电池、有机EL等各种领域。本公司的实验室内设有搭载RAM阴极的群集式溅镀设备,可对客户提供的基材进行镀膜试验。

我们可以为客户解决以下困扰

  • 希望将损伤控制在最低限度

  • 希望镀膜表面平滑

  • 希望在耐热温度较低的基材上镀膜

  • 希望镀膜表面气泡等缺陷较少

特点

实现了低损伤镀膜

实现了低损伤镀膜

使用传统的平板式溅镀法,靶材的溅射颗粒或反弹氩离子会直接撞击基板,镀膜时损伤非常大。

而使用RAM阴极镀膜时,粒子不会直接冲击基板,会均匀落至基材表面,可使镀膜时的损伤控制在最小程度。

可实现高品质镀膜

可实现高品质镀膜

通过相向靶材飞散出的溅射粒子的相互碰撞,溅射粒子会进一步微细化。

细化后的粒子均匀成膜,所以镀膜表面平滑、气泡等较少。

实现很高的覆盖性

实现很高的覆盖性

传统的溅镀方式只能让与靶材平行的面成为主要镀膜面。

RAM阴极通过变更镀膜条件,有效利用斜向溅射的粒子后,可在侧面上的成膜厚度达85%以上(膜厚度相对比)

RAM阴极还可在不同条件下应用于更广泛的工艺。

设备列表

簇式溅射设备

簇式溅射设备

・成膜有效范围
200mm×200mm

・设备配置
RAM 阴极安装溅射室/平面阴极安装溅射室/传送带中心室/负载锁定室/手套箱

・成膜材料
TCO(ITO等)/金属(Cu等)/金属氧化物(NiO等)/C(DLC)/其他

大面积垂直溅射设备

大面积垂直溅射设备

・成膜有效范围
300mm×100mm

・设备配置
带有垂直 RAM 阴极的溅射室

・成膜材料
TCO(ITO等)/金属(Cu等)/金属氧化物(NiO等)/C(DLC)/其他

相关产品

ITO(Indium Tin Oxide)

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ITO一般被用作透明导电膜。使用RAM阴极,可实现低损伤、高致密镀膜,从而有效抑制元器件性能的下降。

一般应用于钙钛矿型太阳能电池、有机EL等对损伤很敏感的元器件。本公司自有的设备可为客户进行镀膜试验。

DLC(Diamond Like Carbon)

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我们成功开研发了用平板式溅射法难以实现的高硬度DLC。根据RAM阴极的成膜特点,表面光滑、透光率高的DLC膜可成功实现。

本公司自有的溅镀设备可为客户进行镀膜试验。

搭载RAM阴极的溅镀设备

搭载RAM阴极的溅镀设备

为了最大限度发挥RAM阴极的潜力,我们一直致力于研发和销售搭载RAM阴极的溅镀设备。

我们的溅镀设备具有创新性设计,海外的研究机构和企业客户都有成功使用的实例。

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