SERVICE 业务介绍 真空镀膜业务
概要
本公司成功开发了在四面相向溅射法中实现高品质成膜的RAM阴极产品。
RAM阴极的特点是,可在低损伤、低温条件下成膜，而且可确保镀膜表面平滑气泡等缺欠较少。
RAM阴极的这些特点，使之可广泛应用于钙钛矿型太阳能电池、有机EL等各种领域。本公司的实验室内设有搭载RAM阴极的群集式溅镀设备，可对客户提供的基材进行镀膜试验。
我们可以为客户解决以下困扰
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希望将损伤控制在最低限度
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希望镀膜表面平滑
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希望在耐热温度较低的基材上镀膜
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希望镀膜表面气泡等缺陷较少
特点
实现了低损伤镀膜
使用传统的平板式溅镀法，靶材的溅射颗粒或反弹氩离子会直接撞击基板，镀膜时损伤非常大。
而使用RAM阴极镀膜时，粒子不会直接冲击基板，会均匀落至基材表面，可使镀膜时的损伤控制在最小程度。
可实现高品质镀膜
通过相向靶材飞散出的溅射粒子的相互碰撞，溅射粒子会进一步微细化。
细化后的粒子均匀成膜，所以镀膜表面平滑、气泡等较少。
实现很高的覆盖性
传统的溅镀方式只能让与靶材平行的面成为主要镀膜面。
RAM阴极通过变更镀膜条件，有效利用斜向溅射的粒子后，可在侧面上的成膜厚度达85%以上（膜厚度相对比）
RAM阴极还可在不同条件下应用于更广泛的工艺。
设备列表
簇式溅射设备
・成膜有效范围
200mm×200mm
・设备配置
RAM 阴极安装溅射室/平面阴极安装溅射室/传送带中心室/负载锁定室/手套箱
・成膜材料
TCO(ITO等)/金属(Cu等)/金属氧化物(NiO等)/C(DLC)/其他
大面积垂直溅射设备
・成膜有效范围
300mm×100mm
・设备配置
带有垂直 RAM 阴极的溅射室
・成膜材料
TCO(ITO等)/金属(Cu等)/金属氧化物(NiO等)/C(DLC)/其他
相关产品
ITO(Indium Tin Oxide)
ITO一般被用作透明导电膜。使用RAM阴极，可实现低损伤、高致密镀膜，从而有效抑制元器件性能的下降。
一般应用于钙钛矿型太阳能电池、有机EL等对损伤很敏感的元器件。本公司自有的设备可为客户进行镀膜试验。
DLC(Diamond Like Carbon)
我们成功开研发了用平板式溅射法难以实现的高硬度DLC。根据RAM阴极的成膜特点，表面光滑、透光率高的DLC膜可成功实现。
本公司自有的溅镀设备可为客户进行镀膜试验。
搭载RAM阴极的溅镀设备
为了最大限度发挥RAM阴极的潜力，我们一直致力于研发和销售搭载RAM阴极的溅镀设备。
我们的溅镀设备具有创新性设计，海外的研究机构和企业客户都有成功使用的实例。